文
论文分享
演练场
杂货铺
论文推荐
字
编辑器下载
登录
注册
L. Edge
发表
High performance extremely thin SOI (ETSOI) hybrid CMOS with Si channel NFET and strained SiGe channel PFET
M. Vinet, L. Grenouillet, T. Nagumo, 2012, 2012 International Electron Devices Meeting.