백기호

미세 패턴 형성을 위한 위상 반전 마스크 연구 ( Alternating Phase Shift Mask for Sub-0.25 mm Lithography )

안창남, 김희범, 백기호, 1996 .

BiCMOS buffer의 지연시간모델과 최적 면적조건정립

백기호, 1994 .

Electron Beam Lithography에서의 Cell Projection Mask를 이용한 Patterning

허철, 김영식, 김철균, 1998 .