K. J. Kuijlaars

Simulatie van stroming in geroerde vaten met behulp van fluent

K. J. Kuijlaars, 1992 .

Multi-scale modeling of chemical vapor deposition processes for thin film technology

K. J. Kuijlaars, C. Kleijn, R. Dorsman, 2007 .

Multi-component diffusion phenomena in multiple-wafer chemical vapour deposition reactors

Chris R. Kleijn, K. J. Kuijlaars, C. Kleijn, 1995 .

A detailed model for low-pressure CVD of tungsten

K. J. Kuijlaars, C. Kleijn, H. V. D. Akker, 1995 .

Design and scale-up of chemical vapour deposition reactors for semiconductor processing

K. J. Kuijlaars, C. Kleijn, H. V. D. Akker, 1996 .

Influence of temperature gradients on partial pressures in a low‐pressure chemical‐vapor‐deposition reactor

K. J. Kuijlaars, H. V. D. Akker, C. Kleijn, 1994 .