Structural and electrical properties of HfO2/Dy2O3 gate stacks on Ge substrates
暂无分享，去创建一个
A. Dimoulas | K. Giannakopoulos | M. S. Rahman | D. Anagnostopoulos | G. Borchert | I. Androulidakis | E. Evangelou | G. Mavrou | R. Valicu | M. Rahman
暂无分享，去创建一个
A. Dimoulas | K. Giannakopoulos | M. S. Rahman | D. Anagnostopoulos | G. Borchert | I. Androulidakis | E. Evangelou | G. Mavrou | R. Valicu | M. Rahman