Method of decomposing layout of semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device using the same

반도체 장치의 레이아웃 분리 방법에서, 반도체 장치의 레이아웃에 포함되는 폴리곤들(polygons) 중에서 두 개 이상의 라인들이 교차하는 교차점(intersection)을 복수 개 갖는 폴리곤을 이차원 폴리곤으로 결정하고, 상기 이차원 폴리곤 상에서 상기 이차원 폴리곤에 포함되는 상기 교차점들 사이에 제1 스티치(stitch)를 생성하고, 상기 레이아웃에 대해 패턴 분리 동작을 수행하여 복수의 분리 패턴들을 생성한다.