Resist technology for deep‐etch synchrotron radiation lithography

Preparation de microstructures de dimensions caracteristiques d'un micron et de hauteurs structurales de plusieurs centaines de microns par lithographie de PMMA reticules prepares par polymerisation d'une resine de MMA contenant 1% d'un dimethacrylate reticulant sur une plaque metallique. Le developpement est fait avec des solvants aux parametres de solubilite situes a la limite du domaine de solubilite du PMMA