Impurity band conduction effects in liquid phase epitaxial Te-doped GaP grown from tin solution†

GaP layers were grown by liquid phase epitaxy from tin solution on semi-insulating GaAs substrates with various amounts of Te added to the melt (xTe = 10−4 … 3 · 10−2). The Sn and Te concentrations in the layers were determined by chemical analysis as function of x. An analysis of the electrical measurements shows that the carrier transport in the layers is essentially determined by impurity band conduction effects. GaP-Schichten wurden durch Flussigphasenepitaxie aus der Zinnlosung auf halbisolierenden GaAs-Substraten unter Zugabe unterschiedlicher Tellurmengen zur Schmelze (x = 10−4 … 3 · 10−2) abgeschieden. Die Sn- und Te-Konzentrationen in den Schichten wurden durch chemische Analyse als Funktion von x ermittelt. Eine Analyse der elektrischen Messungen zeigt, das der Ladungstragertransport in den Schichten wesentlich durch Storbandleitungseffekte bestimmt wird.