실리콘 나노와이어의 압저항 효과를 이용한 마이크로폰 제작에 관한 연구

본 연구에서는 MEMS 공정에 기반을 둔 실리콘 나노와이어 제조공정을 바탕으로 실리콘 나노와이어의 압저항 효과를 이용한 압저항형 마이크로폰 구조를 제안, 소자를 제작하여 그 특성을 평가하였다. 본 마이크로폰은 음압에 따른 diaphragm의 진동에 의한 기계적인 스트레스에 기인한 실리콘 나노와이어의 압저항 효과에 따른 저항 변화가 유도되도록 구조를 설계하였으며, 실리콘 나노와이어 제조공정, 전극형성 공정, Bisbenzocyclobutene(BCB) polymer를 이용한 membrane 형성공정, 기판 본딩 공정, 실리콘 deep RIE(Reactive Ion Etching) 공정을 이용한 diaphragm 형성 공정으로 마이크로폰을 제작하였다. 제작된 마이크로폰은 나노와이어의 굵기, 길이, 위치, 그리고 diaphragm의 크기, BCB membrane의 두께 등 다양한 설계 파라미터를 토대로 각 특성을 평가하였다.