文
论文分享
演练场
杂货铺
论文推荐
字
编辑器下载
登录
注册
Process controllability of inductively coupled plasma-enhanced reactive sputter deposition for the fabrication of amorphous InGaZnOx channel thin-film transistors
复制论文ID
分享
摘要
作者
参考文献
暂无分享,去
创建一个
Y. Setsuhara
|
G. Uchida
|
K. Takenaka
|
Keitaro Nakata
|
Hirofumi Otani
|
Soichiro Osaki
保存到论文桶