Addition of yttrium into HfO2 films: Microstructure and electrical properties
暂无分享，去创建一个
S. Lhostis | F. Ducroquet | B. Hollander | G. Tendeloo | M. Rossell | S. Rushworth | C. Dubourdieu | E. Rauwel | H. Roussel
暂无分享，去创建一个
S. Lhostis | F. Ducroquet | B. Hollander | G. Tendeloo | M. Rossell | S. Rushworth | C. Dubourdieu | E. Rauwel | H. Roussel