Material perspectives of HfO2-based ferroelectric films for device applications
暂无分享，去创建一个
T. Mikolajick | U. Schroeder | A. Toriumi | L. Xu | H. Mulaosmanovic | M. Materano | P. Lomenzo | X. Tian | Y. Mori
暂无分享，去创建一个
T. Mikolajick | U. Schroeder | A. Toriumi | L. Xu | H. Mulaosmanovic | M. Materano | P. Lomenzo | X. Tian | Y. Mori