Influence of passivating interlayer on Ge/HfO2 and Ge/Al2O3 interface band diagrams
暂无分享,去创建一个
C. Merckling | V. Afanas’ev | A. Stesmans | D. Brunco | M. Meuris | M. Houssa | A. Delabie | F. Bellenger | J. Penaud | R. Lieten
暂无分享,去创建一个
C. Merckling | V. Afanas’ev | A. Stesmans | D. Brunco | M. Meuris | M. Houssa | A. Delabie | F. Bellenger | J. Penaud | R. Lieten