文
论文分享
演练场
杂货铺
论文推荐
字
编辑器下载
登录
注册
Simulation of SiO2 and Si feature etching for microelectronics and microelectromechanical systems fabrication: A combined simulator coupling modules of surface etching, local flux calculation, and profile evolution
复制论文ID
分享
摘要
作者
参考文献
暂无分享,去
创建一个
E. Gogolides
|
A. Boudouvis
|
G. Kokkoris
|
A. Tserepi
保存到论文桶