文
论文分享
演练场
杂货铺
论文推荐
字
编辑器下载
登录
注册
Equivalent Oxide Thickness Reduction for High-k Gate Stacks by Optimized Rare-Earth Silicate Reactions
复制论文ID
分享
摘要
作者
参考文献
暂无分享,去
创建一个
C. Adelmann
|
S. Gendt
|
S. Elshocht
|
P. Lehnen
保存到论文桶