Effects of interlayer and annealing on chemical states of HfO2 gate insulators studied by photoemission spectroscopy
暂无分享,去创建一个
H. Kumigashira | M. Oshima | M. Niwa | S. Toyoda | K. Ono | G. L. Liu | K. Usuda | J. Okabayashi
暂无分享,去创建一个
H. Kumigashira | M. Oshima | M. Niwa | S. Toyoda | K. Ono | G. L. Liu | K. Usuda | J. Okabayashi