Optimum Dye Concentration to Balance Reflective Notching Against Wall Angle in Positive Photoresist

On developpe le modele mathematique demontrant comment une petite protuberance sur laquelle se produit une reflexion de la lumiere peut creer une entaille sur une ligne adjacente du photoresist. L'addition au photoresist d'un colorant modifie le coefficient d'absorption sans blanchiment et la vitesse de dissolution a l'exposition complete. Le calcul pour des lignes traversant des gradins montre qu'il existe une concentration optimale de colorant garantissant une variation minimale de la largeur de la ligne