Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition-Grown Tantalum Carbonitride Thin Films
暂无分享，去创建一个
B. Hintze | S. Menzel | L. Wilde | S. Teichert | J. Bartha | M. Albert | J. Thomas | U. Mühle | B. Adolphi | C. Hossbach | M. Bertram | H. Wojcik | D. Schmidt | C. Hossbach | Lutz Wilde | B. Adolphi | B. Adolphi