Process monitoring apparatus and the method of the same

본 발명은 공정 모니터링 장치 및 공정 모니터링 방법을 제공한다. 이 장치는 공정을 진행하는 공정 챔버, 탐침 전극을 포함하면서 공정 챔버에 배치되는 탐침구조체, 탐침구조체 주위에 플라즈마를 생성하는 플라즈마 발생장치, 및 탐침구조체에 적어도 2개의 기본 주파수를 가진 교류 전압을 인가하여 공정 모니터링 파라미터를 추출하는 구동 처리부를 포함한다. 공정 모니터링, 랑뮈어 프르브, 챔버의 표면 상태