A semiconductor element having an alignment key and a method of manufacturing the same

얼라인 키를 갖는 반도체 소자 및 그 제조방법을 제공한다. 상기 반도체 소자는 셀 영역 및 얼라인 키 영역을 갖는 반도체기판을 구비한다. 상기 셀 영역의 반도체기판 내에 셀 활성영역을 한정하는 소자분리막이 배치된다. 셀 전하저장층 패턴이 상기 셀 활성영역 및 상기 소자분리막을 가로지르도록 배치된다. 상기 얼라인 키 영역의 상기 반도체기판 상에, 상기 셀 전하저장층 패턴과 실질적으로 동일한 레벨에 위치하도록 얼라인 전하저장층 패턴이 배치된다. 얼라인 트렌치가 상기 얼라인 전하저장층 패턴과 자기정렬 되도록 상기 얼라인 키 영역의 상기 반도체기판 내에 리세스된다. align key, overlay key