Dry Etching of Polyimide in O 2 ‐ CF 4 and O 2 ‐ SF 6 Plasmas

La corrosion par plasma d'un film de polyimide Kapton H est etudiee dans un reacteur a plaques paralleles avec deux melanges de gaz differents: O 2 −CF 4 et O 2 −SF 6