Atomic - vapour - deposited HfO2 and Sr4Ta2O9 layers for metal-insulator-metal applications
暂无分享，去创建一个
C. Wenger | T. Schroeder | J. Dabrowski | H. Müssig | I. Costina | R. Sorge | M. Lukosius | S. Pasko | C. Lohe
暂无分享，去创建一个
C. Wenger | T. Schroeder | J. Dabrowski | H. Müssig | I. Costina | R. Sorge | M. Lukosius | S. Pasko | C. Lohe