Reactive magnetron cosputtering of hard and conductive ternary nitride thin films: Ti–Zr–N and Ti–Ta–N
暂无分享,去创建一个
P. Villechaise | A. Debelle | G. Abadias | G. N. Tolmachova | T. Sauvage | S. Dub | L. Koutsokeras | G. Tolmachova
暂无分享,去创建一个
P. Villechaise | A. Debelle | G. Abadias | G. N. Tolmachova | T. Sauvage | S. Dub | L. Koutsokeras | G. Tolmachova