Lens array photolithography

(57)【要約】 基板にフォトリソグラフィ露光するための装置および方法は、基板上に像をつくるために光を供給する照明源と、基板上に投影されるパターンを有するマスクと、基板上に複数のレンズチャネルを介して光を投射するレンズアセンブリと、干渉の影響を抑えるために、マスクおよび基板と平行な平面内でレンズアセンブリを移動させるアクチュエータとを有する。