文
论文分享
演练场
杂货铺
论文推荐
字
编辑器下载
登录
注册
A comparative study of CF4/O2/Ar and C4F8/O2/Ar plasmas for dry etching applications
复制论文ID
分享
摘要
作者
参考文献
暂无分享,去
创建一个
G. Yeom
|
A. Efremov
|
K. Kwon
|
Inwoo Chun
保存到论文桶