Reduction of stacking faults in (11$ \bar 2 $0) and (11$ \bar 2 $2) GaN films by ELO techniques and benefit on GaN wells emission
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P. Vennégués | M. Leroux | É. Frayssinet | M. Laügt | P. Gibart | Z. Bougrioua | I. Cestier | T. Gühne
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