Metal‐Insulator Transition in ALD VO2 Ultrathin Films and Nanoparticles: Morphological Control
暂无分享，去创建一个
C. Detavernier | M. Jurczak | C. Adelmann | I. Radu | A. Franquet | S. Van Elshocht | K. Martens | M. Schaekers | J. Rueff | J. Meersschaut | Geert Rampelberg | J. Ablett | A. Peter | D. Cuypers | M. Toeller